 |
迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
11
联系电话
|
迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
联系电话
阅读：107 发布时间：2020/09/22
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，稳定的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用。
二、技术参数：
1、芯片尺寸：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；
2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；
3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；
4、分辨率：优于0.5um；
5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；
6、出射光强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；
7、支持恒定光强或恒定功率模式；
8、曝光时间：0.1~999.9s；
9、对准精度：双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；
10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)；
11、光强均匀性Uniformity：
<±1% over 2” 区域；
<±2% over 4” 区域；
<±3% over 6” 区域；
12、双面光刻：具备背面红外对准（IR BSA）和光学背面对准（OBS BSA），双面对准精度≤2μm；
13、电源：高灵敏度光强可控电源。
可选型号：
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、产品特点：
可选支持单面对准和双面对准设计；
高清晰彩色双CCD镜头采用*分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；
高清彩色双显示屏；
全新气动轴承导轨设计，高准，低磨损，无需售后维护的；
具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；
操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；
操控手柄调控模式的*设计；
采用LED穿透物镜照明技术，具有*对准亮度；
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；
抗衍射反射的高效光学光路设计；
带安全保护功能的温度和气流传感器；
全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度；
设备稳定性，耐用性超高；
